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机译:多金属氧酸盐杂化材料作为可图案化电介质和光刻抗蚀剂的研究
Brandon Hardie; Mark Roll;
机译:电子材料上亚微米和纳米级大面积抗蚀剂的加性软光刻构图
机译:基于金属盐和Keggin多金属氧酸盐的无机-有机杂化材料的构建和性能研究
机译:含多金属氧酸盐簇阴离子和有机染料阳离子的无机-有机杂化材料的研究
机译:构图低k介电材料的蚀刻步骤中的抗蚀剂转变:对过程控制的影响
机译:先进的光刻图案技术:材料和工艺。
机译:多金属氧酸盐杂化材料作为可图案化电介质和光刻胶的研究
机译:电子材料上亚微米级和纳米级大面积抗蚀剂的附加软光刻图案
机译:成膜材料,光刻技术,成膜材料,光学成分形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,抗蚀剂永久膜,放射线敏感性组合物,非晶膜制造方法,光刻法成膜下层膜形成成分,光刻层膜生产方法和电路图形形成方法
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